超高表面光潔度,減少支撐物
超高表面光潔度,最高標準可達 Ra 5 微米(Ra 200 微英寸),簡化后處理操作。得益于卓越的粉末壓實技術(shù),ProX DMP 200 可以在沒有支撐的情況下構(gòu)建 20° 的最小角度。與同類機器相比,所有突出表面都能獲得更好的表面質(zhì)量。較少的支撐和更高的表面質(zhì)量簡化了后處理操作,使用更少的材料,從而節(jié)省時間和成本。